势银研究丨10nm以下制程加持!EUV光刻胶需求已超3000万美元

文章来源: 势银膜链2021-07-20 11:16:13

根据势银(TrendBank)统计分析,受下游高性能芯片、车载电子芯片需求的持续高涨以及国外DUV光刻胶产能不足引发断供,以及全球范围内疫情的逐渐好转, 2021年全球半导体光刻胶市场规模将同比去年增长13%,达到22.7亿美元。

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经势银(TrendBank)统计分析,2020年EUV光刻胶市场需求达到3100万美元,占比为2%。随着全球半导体高性能逻辑芯片、模拟芯片产能向10nm以下先进工艺加码倾斜,预计未来2-3年内将保持70%以上的年增长率。

在看到了EUV的机会后,三星、SK海力士和美光这三大DRAM大厂已经先后布局,甚至已进入了EUV DRAM市场,未来EUV光刻胶市场前景将一片大好。

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就目前终端芯片制程开发进度来看,国际头部晶圆厂的工艺制程要领先国内厂商2-4代,我国晶圆厂的半导体制程集中在28nm以上成熟制程。

这对我国光刻胶企业来讲,是一个需求替代的机遇,能够加速布局DUV光刻胶的研发及产能建设,同时也是一个挑战,即在国内下游半导体制程来到7nm及以下之前,规划好EUV光刻胶的开发及下游合作导入。

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近期,势银(TrendBank)即将发布一份光刻胶产业化标准报告,报告具体目录如下:

2020年光刻胶产业市场分析报告目录:

第一章 光刻胶概念及其行业发展概述
1.1 光刻胶概念深度剖析
    1.1.1 光刻胶应用场景分析
    1.1.2 光刻胶的产品及应用属性
    1.1.3 先进光刻材料热点剖析
1.2 中国光刻胶行业发展现状
    1.2.1 国内光刻胶市场情况
    1.2.2 国内光刻胶产业链瓶颈剖析
    1.2.3 国内利好政策及项目布局剖析

第二章 中国光刻胶专用化学品布局分析
2.1 全球光刻胶专用化学品主要企业格局现状
    2.1.1 生产企业所属地分布情况
    2.1.2 生产企业按经营化学品分类
2.2 国内光刻胶专用化学品市场分析
2.3 国内光刻胶专用化学品重点企业剖析
    2.3.1 强力新材
    2.3.2 圣泉股份
    2.3.3 徐州博康

第三章 中国光刻胶行业竞争环境分析
3.1 国内光刻胶企业数量及区域分布
3.2 国内企业的光刻胶产品/产能布局情况统计
3.3 各应用领域下光刻胶市场解析
3.4 国内光刻胶技术难点剖析
    3.4.1 面板显示用光刻胶技术难点
    3.4.2 半导体用光刻胶技术难点

第四章 全球光刻胶行业知名企业发展情况分析
4.1 国外光刻胶产业主要企业经营情况剖析
    4.1.1 默克
    4.1.2 TOK
    4.1.3 JSR
    4.1.4 信越化学
4.2 重点企业发展情况剖析
    4.2.1 彤程新材
    4.2.2 晶瑞股份
    4.2.3 南大光电
    4.2.4 上海新阳

第五章 中国光刻胶专利及光刻技术分析
5.1 国内企业专利申请数量及时间维度剖析
5.2 国内光刻胶专利结构剖析
    5.2.1 国内专利方向统计分析
    5.2.2 近三年国内外专利趋势对比分析
5.3 先进光刻技术对比分析

第六章 中国光刻胶下游市场需求情况分析
6.1 下游市场需求结构剖析
6.2 下游市场分布区域统计
6.3 下游市场产品技术剖析

第七章 中国光刻胶产业未来发展前景预测

第八章 中国光刻胶行业投资机会及风险分析

*此产业化标准报告预计七月底完成
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